Maszyna do czyszczenia wafli CMOS 1000RPM Odśrodkowa sucha maszyna do czyszczenia strumieniem wody z 2 płynami DI

CMC-800Maszyna do czyszczenia płytek CMOS 1000 obr./min Odśrodkowa sucha 2 płynna maszyna do czyszczenia strumieniem wody DI służy głównie do czyszczenia mikropyłów z produktów modułów kamer, takich jak: Wafel, CMOS, Uchwyt... itp.Dzięki zastosowaniu naszej technologii czyszczenia natryskowego DI water scan, CMC-800 wypłukuje bardzo mało mikropyłów, a dzięki technologii suszenia odśrodkowego o prędkości 1000 obr./min CMC-800 może szybko wysuszyć produkty.

Cechy maszyny:
1. Specjalnie zaprojektowany do czyszczenia kurzu z produktów z modułami kamer.
2. Lustrzana konstrukcja ze stali nierdzewnej, odpowiednia do pomieszczeń czystych.
3. Czysta płyta jest specjalnie wykonana zgodnie z produktami, czystą płytkę można zmienić zgodnie z wymaganiami dotyczącymi czyszczenia różnych produktów.
4. Sterowanie PLC, łatwa obsługa.
5. Przezroczyste przednie drzwi przeciwwybuchowe, bezpieczna obsługa, wygodne do obserwacji.
6. Wszystkie maszyny wyświetlane w metrach.Stan czyszczenia jest monitorowany w tym czasie.
7. 2 strumienie czyste, precyzyjne czyszczenie, brak uszkodzeń produktów, bardzo małe zużycie wody DI.
8. Obróć pręty natryskowe, bez wtórnego zanieczyszczenia.
9. Wyposażony w eliminator ładunków elektrostatycznych, urządzenie do ogrzewania pomieszczenia czyszczącego, pomaga osiągnąć najlepszy wynik czyszczenia.
10. Wyposażone w 2-poziomowy system filtracji powietrza, sprężone powietrze spełnia normę ISO8573.1.
11. Kompaktowa maszyna, mniejsza powierzchnia zabudowy.
12. Używaj czystej wody dejonizowanej zgodnie z normą RoHs.

Specyfikacja maszyny:

 
Zdjęcie maszyny: